DAN Katsuaki,団 克昭,YAMASE Toshihiro,山瀬 利博,ICHIKAWA Hiromichi,市川 弘道
申请号:
JPJP2013/051472
公开号:
WO2013/115063A1
申请日:
2013.01.24
申请国别(地区):
WO
年份:
2013
代理人:
摘要:
The present invention includes: a preparation step for preparing a base material a inclusion step (S7) that causes the inclusion in the base material of a composition containing VOSO4, K11H[(VO)3(SbW9O33)2], Na9[SbW9O33], oxacillin, and 5-chloro-2-(2,4-dichlorophenoxy)phenol and a drying step (S8) for drying the base material caused to include the composition.La présente invention concerne : une étape de préparation destinée à la préparation dun matériau de base une étape dinclusion (S7) incluant dans le matériau de base une composition contenant du VOSO4, du K11H[(VO)3(SbW9O33)2], du Na9[SbW9O33], de loxacilline et du 5-chloro-2-(2,4-dichlorophénoxy)phénol et une étape de séchage (S8) destinée au séchage du matériau de base incluant la composition.基材を準備する準備工程と、前記基材にVOSO4、K11H[(VO)3(SbW9O33)2]、Na9[SbW9O33]、オキサシリン及び5-クロロ-2-(2,4-ジクロロフェノキシ)フェノールを含む組成物を含有させる含有工程(S7)と、前記組成物を含有させた前記基材を乾燥させる乾燥工程(S8)とを含む。