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Plasma treatment device
专利权人:
積水化学工業株式会社;SEKISUI CHEM CO LTD
发明人:
大下 貴也,長原 悠,安宅 元晴,井上 毅,OSHITA TAKAYA,NAGAHARA YU,ATAKA MOTOHARU,INOUE TAKESHI
申请号:
JP2018170479
公开号:
JP2020039673A
申请日:
2018.09.12
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
An object of the present invention is to provide a plasma treatment apparatus which is excellent in workability and can easily adjust a direction in which a propellant gas containing plasma or active gas is discharged. An active gas irradiation device (plasma treatment device) includes an irradiation device 10 that discharges a jet gas including one or both of plasma and active gas generated by the plasma toward an irradiation target, The irradiation device 10 includes a discharge direction adjusting mechanism 14 that adjusts the discharge direction of the injection gas from the nozzle 1 by operating the nozzle operation unit 16 to rotate the head unit 2a. [Selection diagram] FIG.【課題】作業性に優れ、プラズマや活性ガスを含む噴射ガスを吐出する方向を容易に調節できるプラズマ式治療装置を提供する。【解決手段】活性ガス照射装置(プラズマ式治療装置)は、プラズマ及び前記プラズマによって発生した活性ガスのいずれか一方又は両方を含む噴射ガスを被照射物に向かって吐出する照射器具10を備え、照射器具10が、ノズル操作部16を操作してヘッド部2aを回転させることで、ノズル1からの噴射ガスの吐出方向を調節する吐出方向調節機構14を備えている。【選択図】図4
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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