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MEDICAL TREATMENT DEVICE, METHOD OF USING MEDICAL TREATMENT DEVICE, AND ACTIVE GAS Irradiation Method
专利权人:
積水化学工業株式会社
发明人:
大下 貴也,上原 剛,長原 悠,瀧川 喜重
申请号:
JP2019525554
公开号:
JPWO2018230689A1
申请日:
2018.06.15
申请国别(地区):
JP
年份:
2019
代理人:
摘要:
In the medical treatment instrument (100) that generates plasma and irradiates an active gas generated by the generated plasma from an irradiation port, the active gas is a temperature at an irradiated surface at a distance of 1 mm to 10 mm from the irradiation port. Is a medical treatment device 100 having a radical concentration of 0.1 to 300 μmol / L. The radical concentration is determined as follows. With respect to 0.4 mL of DMPO (5,5-dimethyl-1-pyrroline-N-oxide) 0.2 mol / L solution, the distance from the irradiation port to the liquid surface was set to 5.0 mm, and the active gas was irradiated for 30 seconds. Thereafter, the hydroxyl radical concentration of the solution irradiated with the active gas is measured by an electron spin resonance (ESR) method, and this is used as the radical concentration.プラズマを発生し、発生したプラズマにより生じた活性ガスを照射口から照射する医療用治療器具(100)において、前記活性ガスは、前記照射口から1mm以上10mm以下の距離にある被照射面における温度が40℃以下であり、かつ、ラジカル濃度が0.1~300μmol/Lである、医療用治療器具100。ラジカル濃度は、下記のようにして求められる。DMPO(5,5-ジメチル-1-ピロリン-N-オキシド)0.2mol/L溶液0.4mLに対して、照射口から液面までの距離を5.0mmとし、活性ガスを30秒間照射した後、活性ガスが照射された前記溶液について、電子スピン共鳴(ESR)法によりヒドロキシルラジカル濃度を測定し、これをラジカル濃度とする。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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