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PLASMA TREATMENT DEVICE
专利权人:
積水化学工業株式会社;SEKISUI CHEM CO LTD
发明人:
ATAKA MOTOHARU,安宅 元晴,UEHARA TAKESHI,上原 剛,TOUGI AKIKO,東儀 彰子,TAKADA MASAHIRO,▲高▼田 雅宏,OSHITA TAKAYA,大下 貴也,TADA MAYUKA,多田 麻友華,NAGAHARA YU,長原 悠,INOUE TAKESHI,井上 毅
申请号:
JP2018116240
公开号:
JP2019216954A
申请日:
2018.06.19
申请国别(地区):
JP
年份:
2019
代理人:
摘要:
To provide a plasma treatment device that can acquire temperature information of an irradiated surface of an irradiated object which a plasma and an active gas are irradiated with.SOLUTION: An active gas radiation device 100 (plasma treatment device) includes: a plasma generation part for generating a plasma; a nozzle for discharging any one or both of the plasma and an active gas generated by the plasma; and a temperature measurement part 80 for measuring temperature of an irradiated surface of an irradiated object.SELECTED DRAWING: Figure 1【課題】プラズマや活性ガスを照射している被照射物における被照射面の温度情報を取得できるプラズマ式治療装置を提供する。【解決手段】活性ガス照射装置100(プラズマ式治療装置)は、プラズマが発生するプラズマ発生部と、プラズマ及びプラズマによって発生した活性ガスのいずれか一方又は両方を吐出するノズルと、被照射物における被照射面の温度を測定する温度測定部80とを備える。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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