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Plasma treatment device
专利权人:
積水化学工業株式会社;SEKISUI CHEM CO LTD
发明人:
大下 貴也,長原 悠,安宅 元晴,井上 毅,OSHITA TAKAYA,NAGAHARA YU,ATAKA MOTOHARU,INOUE TAKESHI
申请号:
JP2018170478
公开号:
JP2020039672A
申请日:
2018.09.12
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
A plasma treatment apparatus capable of performing treatment under optimum irradiation conditions without increasing the flow rate of plasma or active gas while enlarging the irradiation area of plasma or active gas on an irradiation target. . An irradiation device includes a plasma generating unit for generating plasma, and a nozzle having a discharge port for discharging one or both of plasma and active gas generated by the plasma. A removable cartridge 61 having an opening 61a for irradiating the plasma or active gas discharged from the irradiating body H with an enlarged irradiation area, and a control unit for adjusting the flow rate of the plasma or active gas. The control unit adjusts the flow rate of the plasma or the active gas in accordance with the opening area of the opening 61a in the cartridge 61, so that the plasma or the active gas emitted from the opening 61a toward the irradiation target H is provided. Is controlled to be constant. [Selection diagram] FIG.【課題】被照射体に対するプラズマ又は活性ガスの照射面積を拡大させながら、プラズマ又は活性ガスの流速を低下させることなく、最適な照射条件で治療を行うことが可能なプラズマ式治療装置を提供する。【解決手段】プラズマが発生するプラズマ発生部と、プラズマ及びプラズマによって発生した活性ガスの何れか一方又は両方を吐出する吐出口1aを有するノズル1と、を有する照射器具を備え、さらに、ノズル1から吐出されるプラズマ又は活性ガスを、被照射体Hに対する照射面積を拡大させて照射する開口部61aを有する、着脱可能なカートリッジ61と、プラズマ又は活性ガスの流量を調整する制御部と、を備え、該制御部は、カートリッジ61における開口部61aの開口面積に応じて、プラズマ又は活性ガスの流量を調整することにより、開口部61aから被照射体Hに向けて照射されるプラズマ又は活性ガスの流速を一定に制御する。【選択図】図7
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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