真空成膜装置

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专利权人:

キヤノントッキ株式会社

发明人:

河野 貴志,石井 博,佐藤 智之

申请号：

JP20160136249

公开号：

JP6262811(B2)

申请日:

2016.07.08

申请国别(地区):

日本

年份:

2018

代理人:

摘要：

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/