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真空成膜装置
- 专利权人:
- キヤノントッキ株式会社
- 发明人:
- 河野 貴志,石井 博,佐藤 智之
- 申请号：
- JP20160136249
- 公开号：
- JP2018003141(A)
- 申请日:
- 2016.07.08
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】簡易な構成で真空槽の槽壁の歪みに起因する基板とマスクとの位置ずれを抑制できる真空成膜装置の提供。【解決手段】真空槽１と、この真空槽１内に設けられる基板支持体３及びマスク支持体５と、真空槽１外に設けられ基板支持体３に支持された基板２とマスク支持体５に支持されたマスク４との相対位置を調整するためのアライメント機構６とを備えた真空成膜装置であって、基板支持体３が接続されたアライメント機構６が設けられ真空槽１の槽壁外面に当接固定される第１の固定部材７と、マスク支持体５が設けられ真空槽１の槽壁内面に当接固定される第２の固定部材８とを有し、第１の固定部材７の槽壁外面との当接端部９と、第２の固定部材８の槽壁内面との当接端部10とを、槽壁を挟んで対向位置に設ける。【選択図】図３
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
