金属酸化物膜の製造方法、金属酸化物膜、薄膜トランジスタ、及び電子デバイス
- 专利权人:
- 富士フイルム株式会社
- 发明人:
- 高田 真宏
- 申请号：
- JP20160529260
- 公开号：
- JPWO2015198857(A1)
- 申请日:
- 2015.06.09
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 溶媒及び金属成分として少なくともインジウムを含む溶液を基板上に塗布して金属酸化物前駆体膜を形成する金属酸化物前駆体膜形成工程と、金属酸化物前駆体膜を加熱した状態で、金属酸化物前駆体膜に対し、波長２００ｎｍ超３００ｎｍ以下の照度が８０ｍＷ／ｃｍ２以上であること、及び、波長１５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の照度が６．５ｍＷ／ｃｍ２以上であることの少なくとも一方を満たす条件で紫外線を照射することにより金属酸化物前駆体膜を金属酸化物膜に転化させる転化工程と、を有する金属酸化物膜の製造方法及びその応用。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
