位相シフタ膜の製造方法、位相シフトマスクブランクの製造方法、及び、位相シフトマスクの製造方法
- 专利权人:
- アルバック成膜株式会社
- 发明人:
- 磯 博幸,影山 景弘,金井 修一郎
- 申请号：
- JP20160146598
- 公开号：
- JP2018017825(A)
- 申请日:
- 2016.07.26
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】面内透過率のバラツキを抑制できる、位相シフタ膜の製造方法を提供する。【解決手段】本発明は、反応性ロングスロースパッタリング方法を用いて形成する、位相シフトマスクに用いられる位相シフタ膜の製造方法であって、前記反応性ロングスロースパッタリング方法は、前記位相シフタ膜を形成するための真空槽内に、反応ガスと不活性ガスとを、それぞれ分離して導入するとともに、前記不活性ガスとしてヘリウム（Ｈｅ）を含むガスを用いる。【選択図】図１
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
