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二軸同期延伸方式による位相差膜の製造方法及びその位相差膜
- 专利权人:
- 穎台科技股▲ふん▼有限公司
- 发明人:
- ▲黄▼ 鵬毅,陳 世亮,廖 正倫
- 申请号：
- JP20160235769
- 公开号：
- JP2018013760(A)
- 申请日:
- 2016.12.05
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】二軸同期延伸方式による位相差膜の製造方法を提供する。【解決手段】本発明の二軸同期延伸方式による位相差膜の製造方法は、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）材質の鋳造材薄膜を進行方向及び幅方向で同時に1.0〜5.0倍に延伸し、大きな寸法の薄膜を得ることができる。また、アニーリング温度パラメータで薄膜進行方向及び幅方向を合わせて同時に収縮を行い、延伸応力により屈折下降を制御する。薄膜の高い光学均一性を更に制御するため、延伸薄膜表面温度により制御した後に延伸時の薄膜進行方向で起こされる光学変異を改善し、下記薄膜光学特性：RO：0〜3nm（そのうち、RO=α△T延伸温度+β△X延伸倍率+γ△Tアニーリング温度+δ△X収縮割合+C1)、及びRth:0〜-40nm (そのうち、Rth=a△T延伸温度+b△X延伸倍率+c△Tアニーリング温度+d△X収縮割
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
