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金属アルコキシド化合物、薄膜形成用原料、薄膜の製造方法及びアルコール化合物
- 专利权人:
- 株式会社ＡＤＥＫＡ
- 发明人:
- 桜井 淳,畑▲瀬▼ 雅子,山田 直樹,白鳥 翼,齋藤 昭夫,吉野 智晴
- 申请号：
- JP20140546914
- 公开号：
- JPWO2014077089(A1)
- 申请日:
- 2013.10.21
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 本発明は、ＣＶＤ法による薄膜形成用原料として好適な物性を有する金属アルコキシド化合物、特に、金属銅薄膜形成用原料として好適な物性を有する金属アルコキシド化合物を提供するものであり、具体的には、下記一般式（Ｉ）で表される金属アルコキシド化合物及び該金属アルコキシド化合物を含有してなる薄膜形成用原料を提供するものである。（式中、Ｒ1はメチル基又はエチル基を表し、Ｒ2は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ3は炭素数１〜３の直鎖又は分岐状のアルキル基を表し、Ｍは金属原子又は珪素原子を表し、ｎは金属原子又は珪素原子の価数を表す。）
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
