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Agent to suppress the formation of abnormal skin cells caused by exposure to light
专利权人:
OTSUKA PHARMACEUTICAL CO.; LTD.
发明人:
KAWAMURA, MITSUAKI,SHINOHARA, SHIGEO,HARANO, FUMIKI,AOKI, AKIHIRO,UENO, ERI
申请号:
ES11736467
公开号:
ES2508591T3
申请日:
2011.06.24
申请国别(地区):
ES
年份:
2014
代理人:
摘要:
Purine nucleic acid for use in suppressing the formation of abnormal skin cells caused by exposure to light, in which purine nucleic acid is applied externally and in which purine nucleic acid is therefore less an element selected from the group consisting of adenosine monophosphates and salts thereof.Ácido nucleico de purina para la utilización en la supresión de la formación de células de la piel anormales causadas por la exposición a la luz, en el que el ácido nucleico de purina se aplica externamente y en el que el ácido nucleico de purina es por lo menos un elemento seleccionado de entre el grupo que consiste en adenosín monofosfatos y sales de los mismos.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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