AGENT FOR SUPPRESSING THE FORMATION OF ABNORMAL SKIN CELLS CAUSED BY EXPOSURE TO LIGHT

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专利权人:

LTD.;오츠카 세이야쿠 가부시키가이샤;OTSUKA PHARMACEUTICAL CO.;OTSUKA PHARMACEUTICAL CO., LTD.

发明人:

KAWAMURA MITSUAKI,가와무라, 미츠아키,SHINOHARA SHIGEO,시노하라, 시게오,HARANO FUMIKI,하라노, 후미키,AOKI AKIHIRO,아오키, 아키히로,UENO ERI,우에노, 에리

申请号：

KR1020137001871

公开号：

KR1020130120450A

申请日:

2011.06.24

申请国别(地区):

KR

年份:

2013

代理人:

摘要：

An object of the present invention is to provide an agent for suppressing the formation of skin cells induced by exposure to light such as ultraviolet light. The object is achieved by using a purine nucleic acid for suppressing the formation of abnormal skin cells caused by exposure to light.본 발명의 목적은 자외선과 같은 광 노출에 의해 유발되는 피부 세포 형성의 억제제를 제공하는 것이다. 본 목적은 광 노출에 의한 비정상적인 피부 세포의 형성을 억제하기 위해 퓨린계 핵산을 사용함으로써 달성된다.

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/