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Agent for suppressing the formation of abnormal skin cells caused by exposure to light
专利权人:
Ltd.;Otsuka Pharmaceutical Co.
发明人:
Kawamura, Mitsuaki,Shinohara, Shigeo,Harano, Fumiki,Aoki, Akihiro,Ueno, Eri
申请号:
AU2011270096
公开号:
AU2011270096B2
申请日:
2011.06.24
申请国别(地区):
AU
年份:
2014
代理人:
摘要:
An object of the present invention is to provide an agent for suppressing the formation of skin cells induced by exposure to light such as ultraviolet light. The object is achieved by using a purine nucleic acid for suppressing the formation of abnormal skin cells caused by exposure to light.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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