真空蒸着装置
- 专利权人:
- 日本電子株式会社
- 发明人:
- 谷口 明
- 申请号：
- JP20150135170
- 公开号：
- JP2017014600(A)
- 申请日:
- 2015.07.06
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】真空室内の経時的な環境変化に対応可能な真空蒸着装置を提供する。【解決手段】本発明の真空蒸着装置１は、真空室３に設置されたプラズマ発生装置４が発生するプラズマにより基板（基材）９に成膜処理を施すとともに、プラズマ発生装置４のアノード電極にパルス電圧を印加するパルス電源部１２を備える。この真空蒸着装置１において、真空室３内の経時的な環境変化を測定部１５で測定し、制御部１４によるフィードバック制御により、測定部１５の測定結果に基づいてパルス電圧のデューティ比を制御することで、真空室３内の環境に適したデューティ比のパルス電圧をアノード電極にバイアス電圧として印加する。【選択図】 図１
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