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金属珪素の不動態膜の除去方法並びに四塩化珪素の製造方法及び装置
- 专利权人:
- 一般財団法人電力中央研究所
- 发明人:
- 村上 毅,坂村 義治,魚住 浩一
- 申请号：
- JP20160150425
- 公开号：
- JP2018016874(A)
- 申请日:
- 2016.07.29
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】塩化物イオンを含む溶融塩中で金属珪素の不動態膜を除去する方法及び装置の提供。【解決手段】塩化物イオンを含む溶融塩３中に浸漬した金属珪素４の電位を、塩化物イオンを含む溶融塩３中での金属珪素４のサイクリックボルタモグラムにおいて還元電流が流れ始める電位よりも卑な電位で且つ塩化物イオンを含む溶融塩中のカチオンが金属珪素と合金化しない電位に制御して、金属珪素の不動態膜を除去する金属珪素の不動態膜の除去方法。塩化物イオンを含む溶融塩３中に浸漬した不動態膜を除去した金属珪素４の電位を、以下の（１）及び（２）に規定する電位に交互に制御する工程を含む、四塩化珪素の製造方法。（１）金属珪素４が陽極として機能する電位、（２）塩化物イオンを含む溶融塩３中での金属珪素４のサイクリックボルタ
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
