The present invention relates to a composition for removing chemical residues, a process for using said composition as well as the use of said composition for removing residues on material, machinery and equipment soiled by any type of material. Chemical product. La présente invention porte sur une composition permettant d’enlever des résidus chimiques, un procédé de mise en œuvre de ladite composition ainsi que l’utilisation de ladite composition pour enlever des résidus sur du matériel, des machines et des équipements souillés par tout type de produit chimique.
