PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a charged particle irradiation system for preventing the worsening of horizontal dose uniformity by forming horizontal dose distribution over two or more synchrotron operating periods without causing a lack of an orbiting beam charge amount during scanning the beams, in a particle beam treatment device which scans charged particle beams in the direction perpendicular to the moving direction for irradiation.SOLUTION: The charged particle irradiation system includes a synchrotron 2 for accelerating and emitting ion beams, an irradiation field-forming device 200 for irradiating an irradiated object with the ion beams passing through a scanning electromagnet 202, and a control device for changing the operation pattern of the synchrotron 2 in accordance with the orbiting beam charge amount of the synchrotron 2 during a period from when one scanning of the charged particle beams to an irradiation position by the scanning electromagnet 202 is completed till when the next scanning is started.COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT【課題】荷電粒子ビームを進行方向に垂直な方向に走査して照射する粒子線治療装置において、ビーム走査中に周回ビーム電荷量が不足することがなく、横方向の線量分布がシンクロトロンの二つ以上の運転周期にわたって形成されることによる横方向線量一様度の悪化を防止することができる荷電粒子照射システムを提供することにある。【解決手段】イオンビームを加速して出射するシンクロトロン2と、走査電磁石202を通過したイオンビームを照射対象に照射する照射野形成装置200と、走査電磁石202による荷電粒子ビームの照射位置の一回の走査が完了してから次の回の走査を開始するまでの期間におけるシンクロトロン2の周回ビーム電荷量に基づいて、シンクロトロン2の運転パターンを変更する制御装置を備えたことにより、上記課題を解決する。【選択図】 図1
