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投影光学系、投影方法、投影光学系の調整方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法
- 专利权人:
- 株式会社ニコン
- 发明人:
- 湯淺 吉晴,藤島 洋平,北村 弥紘,山田 潔彰,大村 泰弘,柘植 陽介
- 申请号：
- JP20150235354
- 公开号：
- JP2017102274(A)
- 申请日:
- 2015.12.02
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】 たとえば光照射に起因して発生する波面収差を調整することのできる投影光学系。【解決手段】 第１面の像を第２面に形成する投影光学系は、第１面の位置と光学的にフーリエ変換の関係にある第１瞳位置の近傍において第１面側または第２面側に配置され、入射光の波面を能動的に変化させて射出する第１補正部材と、第１瞳位置の近傍または第１瞳位置と光学的に共役な第２瞳位置の近傍において第２面側または第１面側に配置され、入射光の波面を能動的に変化させて射出する第２補正部材とを備えている。第１面と光学的にフーリエ変換の関係にある瞳面と第１面の位置と光学的に共役な中間像面とのうち、第１補正部材と第２補正部材との間に位置する面の数は奇数である。第１補正部材に関する距離Ｈｃ１およびＨｐ１、並びに第２補
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
