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投影光学系、投影方法、投影光学系の調整方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法
- 专利权人:
- 株式会社ニコン
- 发明人:
- 湯淺 吉晴,藤島 洋平,北村 弥紘,山田 潔彰,大村 泰弘,柘植 陽介
- 申请号：
- JP20150235353
- 公开号：
- JP2017102273(A)
- 申请日:
- 2015.12.02
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】 たとえば光照射に起因して発生する波面収差を調整することのできる投影光学系。【解決手段】 第１面の像を第２面に形成する投影光学系は、第１面の位置と光学的にフーリエ変換の関係にある瞳位置から離れた位置に配置され、入射光の波面を能動的に変化させて射出する第１補正部材と、第１面の位置と光学的にフーリエ変換の関係にある瞳位置から離れた位置に配置され、入射光の波面を能動的に変化させて射出する第２補正部材と、第１面の位置と光学的にフーリエ変換の関係にある瞳位置またはその近傍に配置され、入射光の波面を能動的に変化させて射出する第３補正部材とを備えている。第１補正部材に関する距離Ｈｃ１およびＨｐ１、第２補正部材に関する距離Ｈｃ２およびＨｐ２、並びに第３補正部材に関する距離Ｈｃ３および
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
