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低含水性軟質デバイスおよびその製造方法
专利权人:
東レ株式会社
发明人:
北川 瑠美子,中村 正孝
申请号:
JP2012540195
公开号:
JPWO2013024800A1
申请日:
2012.08.10
申请国别(地区):
JP
年份:
2015
代理人:
摘要:
low water-containing soft device of the present invention, the surface of the low water-containing soft base material at least a portion of the I comprises a soft member, which layer comprising the acidic polymer and basic polymer were formed. The manufacturing method of the low water-containing soft device has per molecule more polymerizable functional groups, the components A number average molecular weight of 6,000 or more polysiloxane compounds, and, in the polymerizable monomer having a fluoroalkyl group and polymerizing a mixture containing a certain component B, the step 1 to obtain a molded body of a desired shape, after which the molded body is brought into contact with a basic polymer solution, a step 2 for washing away the excess of the base polymer solution, After the molded body was contacted with an acidic polymer solution, and a step 3 for washing off the excess acid polymer solution in this order. The present invention, in addition to hydrophilicity, has good lubricity, long time is difficult to even dried using, it is possible to maintain the flexibility and low water-containing soft devices change in the shape is small, and their To provide a process for the production.本発明の低含水性軟質デバイスは、低含水性軟質基材の表面の少なくとも一部に、酸性ポリマーおよび塩基性ポリマーからなる層が形成された軟質部材を備える。この低含水性軟質デバイスの製造方法は、1分子あたり複数の重合性官能基を有し、数平均分子量が6000以上のポリシロキサン化合物である成分A、および、フルオロアルキル基を有する重合性モノマーである成分Bを含む混合物を重合し、所望の形状の成型体を得る工程1と、成型体を塩基性ポリマー溶液に接触させた後、余剰の該塩基性ポリマー溶液を洗浄除去する工程2と、成型体を酸性ポリマー溶液に接触させた後、余剰の該酸性ポリマー溶液を洗浄除去する工程3とをこの順に含む。本発明は、親水性に加え、良好な易滑性を有し、長時間使用しても乾燥し難く、柔軟性を保つことができ、かつ、形状の変化が少ない低含水性軟質デバイスおよびその製造方法を提供する。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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