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ノボラック型フェノール樹脂、その製造方法、感光性組成物、レジスト材料、及び塗膜
- 专利权人:
- ＤＩＣ株式会社
- 发明人:
- 今田 知之,佐藤 勇介
- 申请号：
- JP20160509802
- 公开号：
- JPWO2016084495(A1)
- 申请日:
- 2015.10.08
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 耐熱性に優れており、かつｇ線、ｈ線、及びｉ線の露光波長に対する吸光度が低く、高感度な感光性組成物、レジスト材料、その塗膜、及びこれらの用途に好適なノボラック型フェノール樹脂とその製造方法を提供する。具体的には、ジアルキル置換フェノールと水酸基含有芳香族アルデヒドとの縮合反応により得られるフェノール系３核体化合物（Ａ１）と、２，３位、２，５位、３，４位、又は３，５位の位置にアルキル基を有するジアルキル置換フェノールと水酸基を有さない芳香族アルデヒドとの縮合反応により得られるフェノール系３核体化合物（Ａ２）とからなり、かつ前記フェノール系３核体化合物（Ａ１）と前記フェノール系３核体化合物（Ａ２）のモル比が２０：８０〜９０：１０であるフェノール系３核体化合物（Ａ）と、ホルムアルデ
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
