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感光性転写材料、感光性低屈折率転写層を有する基板、感光性低屈折率転写層の製造方法、永久膜の形成方法、光学デバイスの製造方法
- 专利权人:
- 富士フイルム株式会社
- 发明人:
- 中村 秀之,藤本 進二,漢那 慎一
- 申请号：
- JP20140546978
- 公开号：
- JPWO2014077228(A1)
- 申请日:
- 2013.11.12
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 低屈折率であり、光伝達効率が高く、転写後の面内膜厚均一性に優れた層を得ることができる感光性転写材料を提供することを目的とする。本発明の感光性転写材料は、支持体上に少なくとも感光性低屈折率材料層を有し、上記感光性低屈折率材料層が、（成分Ａ）中空又は多孔質粒子と、（成分Ｂ）光重合開始剤と、（成分Ｃ）重合性官能基を有するポリマーと、（成分Ｄ）モノマーと、を含有することを特徴とする。また、本発明の基板は、上記感光性転写材料から上記感光性低屈折材料層を転写した感光性低屈折率転写層を有する。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
