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金属膜の形成方法
专利权人:
三菱マテリアル株式会社
发明人:
山崎 和彦,石川 史朗,中矢 清隆,植杉 隆二
申请号:
JP20150212725
公开号:
JP2017082296(A)
申请日:
2015.10.29
申请国别(地区):
日本
年份:
2017
代理人:
摘要:
【課題】銅含有基材への密着性が高いメッキ膜として使用することを可能にする。【解決手段】銅含有基材の表面に金属レジネートインクを塗布して金属レジネートインク層を形成し、前記インク層の有機溶媒を除去した後、前記基材表面から前記インク層にレーザ光照射、マイクロ波照射、赤外線照射又は光焼成による光照射のいずれかの熱処理を施すことにより、前記インク層を焼成して金属膜を形成する。金属レジネートが、α—ピネン、α—ターピネオール又はイソボルネオールのメルカプタン金、サルフィド金、アベチエン酸金、ネオデカン酸金、2−エチルヘキサン酸金及びナフテン酸金からなる群より選ばれた1種又は2種以上である金レジネートインクであることが好ましい。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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