The present invention provides a cosmetic method having a superior roughness correction effect and such that it is possible to easily remove makeup cosmetic materials and/or sun care cosmetic materials. The cosmetic method has a step for pasting the base material film surface of a thin film onto skin, a step for eliminating the support body of the pasted thin film, and a step for applying a makeup cosmetic material and/or sun care cosmetic material to the skin, and is characterized by the thin film comprising a support body and a base material film having a thickness of 10-500 nm.L'invention fournit un procédé de soin de beauté qui est excellent en termes de correction des irrégularités, et qui permet d'éliminer aisément un produit cosmétique de maquillage et/ou un produit cosmétique de protection solaire. Le procédé de soin de beauté de l'invention est caractéristique en ce qu'il présente : une étape au cours de laquelle une face film de matériau de base d'un film mince est apposée sur la peau ； une étape au cours de laquelle un corps de support du film mince ainsi apposé, est retiré ； et une étape au cours de laquelle le produit cosmétique de maquillage et/ou le produit cosmétique de protection solaire est appliqué sur la peau. Le film mince est constitué d'un film de matériau de base de 10 à 500nm d'épaisseur, et du corps de support.本発明は、凹凸補正効果に優れ、メーキャップ化粧料および／またはサンケア化粧料を容易に落とすことができる美容方法を提供する。本発明にかかる美容方法は、薄膜の基材膜面を皮膚に貼付するステップと、貼付した薄膜の支持体を除去するステップと、該皮膚にメーキャップ化粧料および／またはサンケア化粧料を塗布するステップを有する美容方法であって、薄膜が、膜厚が１０～５００ｎｍの基材膜と支持体からなることを特徴とする。
