The present invention provides a cosmetic method having a superior effect of preventing secondary adhesion. The cosmetic method has a step for applying a cosmetic material to skin, a step for pasting the base material film surface of a thin film to skin, and a step for eliminating the support body of the pasted thin film, and is characterized by the thin film comprising a support body and a base material film having a thickness of 10-500 nm.Linvention fournit un procédé de soin de beauté excellent en termes defficacité contre une adhésion secondaire. Le procédé de soin de beauté de linvention est caractéristique en ce quil présente : une étape au cours de laquelle un produit cosmétique est appliqué sur la peau une étape au cours de laquelle une face film de matériau de base dun film mince est apposée sur la peau et une étape au cours de laquelle un corps de support du film mince ainsi apposé, est retiré. Le film mince est constitué dun film de matériau de base de 10 à 500nm dépaisseur, et du corps de support.本発明は、二次付着レス効果に優れる美容方法を提供する。本発明にかかる美容方法は、皮膚に化粧料を塗布するステップと、薄膜の基材膜面を皮膚に貼付するステップと、貼付した薄膜の支持体を除去するステップと、を有する美容方法であって、 薄膜が、膜厚が10~500nmの基材膜と支持体からなることを特徴とする。
