ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS CMP HOLDINGS, INC.
发明人:
GUO, YI,MOSLEY, DAVID,THORSEN, DAVID L.
申请号：
FR20170059860
公开号：
FR3057577(A1)
申请日:
2017.10.19
申请国别(地区):
法国
年份:
2018
代理人:
摘要：
La présente invention concerne une composition aqueuse de polissage par planarisation mécano-chimique (CMP) qui a une excellente stabilité au vieillissement thermique et au stockage sous forme de concentré, comprenant un mélange d'un composé contenant deux groupes ammonium quaternaire, comme le dihydroxyde de N,N,N,N',N',N'-hexabutyl -1,4-butanediammonium (HBBAH), et de particules de silice contenant un ou des groupes aminosilane en une quantité de 1 à 30 % en poids en solides sur la base du poids total de la composition, la composition ayant un pH allant de 3 à 5 et étant stable contre une précipitation ou sédimentation visible à une teneur en solides de 15 % en poids après vieillissement thermique à une température de 45°C pendant au moins 6 jours.
