表面改質方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、表面改質装置及び接合システム
- 专利权人:
- 東京エレクトロン株式会社
- 发明人:
- 古家 元,北原 重徳,永田 篤史,岡本 典彦,房野 泰明
- 申请号：
- JP20150115938
- 公开号：
- JP2017005058(A)
- 申请日:
- 2015.06.08
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】表面改質装置の損傷を抑制しつつ、当該表面改質装置において基板の表面を適切に改質する。【解決手段】表面改質装置３０は、処理容器１００内に配置され、基板ＳＵ、ＳＬが載置される下部電極１１０と、処理容器１００内において下部電極１１０に対向して配置される上部電極１４０と、を有する。下部電極１１０は、プラズマ生成用の所定周波数の電圧を印加するための高周波電源１３４に接続され、上部電極１４０は接地されている。所定周波数は、１３ＭＨｚ〜１００ＭＨｚのいずれかである。【選択図】図４
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
