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タングステンＣＭＰのための組成物
- 专利权人:
- キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
- 发明人:
- スティーブン グランビーン,ジェフリー ディザード,フゥ リン,ウィリアム ワード,グレン ホワイトナー
- 申请号：
- JP20160555993
- 公开号：
- JP2017514295(A)
- 申请日:
- 2015.03.09
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- タングステン層を有する基材を研磨するための化学的機械的研磨組成物は、水系液体キャリアー、液体キャリアー中に分散しておりかつ少なくとも６ｍＶの永久正電荷を有するコロイドシリカ研削剤、液体キャリアー中に溶解しているアミン化合物、および鉄含有加速剤を含む。タングステン層を含む基材を化学的機械的に研磨する方法は、基材と上記の研磨組成物とを接触させることと、基材に対して研磨組成物を動かすことと、基材を摩耗させて基材からタングステンの一部分を除去し、そしてそれによって基材を磨くこととを含む。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
