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タングステンCMP用の組成物
专利权人:
キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
发明人:
スティーブン グランビーン,ジェフリー ディザード,フゥ リン,ウィリアム ワード,グレン ホワイトナー
申请号:
JP20160556736
公开号:
JP2017514297(A)
申请日:
2015.03.09
申请国别(地区):
日本
年份:
2017
代理人:
摘要:
タングステン層を有する基材を研磨するための化学機械研磨組成物であって、この化学機械研磨組成物は、水系の液体キャリア、液体キャリア中に分散され、かつ少なくとも6mVの永久的な正の電荷を有するコロイド状シリカ研磨剤、液体キャリア中の溶液のアミン含有ポリマー、および鉄含有促進剤を含んでいる。タングステン層を含む基材を化学機械研磨する方法であって、該方法は、基材を上記の研磨組成物と接触させること、研磨組成物を基材に対して動かすこと、および基材からタングステンの一部を取り除くように基材を削り取って、そしてそれによって基材を研磨すること、を含んでいる。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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