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PLASMA TREATMENT KIT AND TREATMENT METHOD
专利权人:
積水化学工業株式会社;SEKISUI CHEM CO LTD
发明人:
TOUGI AKIKO,東儀 彰子,UEHARA TAKESHI,上原 剛,OSHITA TAKAYA,大下 貴也,TAKADA MASAHIRO,▲高▼田 雅宏,ATAKA MOTOHARU,安宅 元晴,TADA MAYUKA,多田 麻友華,NAGAHARA YU,長原 悠,INOUE TAKESHI,井上 毅
申请号:
JP2018117363
公开号:
JP2019217050A
申请日:
2018.06.20
申请国别(地区):
JP
年份:
2019
代理人:
摘要:
To provide a plasma treatment kit that can confirm a region which a plasma and an active gas are irradiated with, and to provide a treatment method.SOLUTION: A plasma treatment kit includes: a plasma treatment device for discharging a jetting gas containing any one or both of a plasma and active species generated by the plasma; and a marker composition containing a marker substance which is partially or entirely decomposed by the jetting gas. A treatment method includes: preliminarily applying the marker composition to an affected part; and irradiating a region to which the marker composition is applied, with the jetting gas.SELECTED DRAWING: Figure 1【課題】プラズマや活性ガスが照射された領域を確認できるプラズマ式治療キット及び治療方法を提供する。【解決手段】プラズマ及びプラズマによって発生した活性種のいずれか一方又は両方を含む噴射ガスを吐出するプラズマ式治療装置と、前記噴射ガスによって一部又は全部が分解する標識物質を含む標識組成物と、を有することよりなる。患部に前記標識組成物を予め塗布し、前記標識組成物が塗布された領域に、前記噴射ガスを照射することよりなる。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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