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乙炔基衍生物
专利权人:
霍夫曼-拉罗奇有限公司
发明人:
卢克·格林,沃尔夫冈·古帕,乔治·耶施克,西内塞·若利多,洛塔尔·林德曼,海因茨·施塔德勒,埃里克·维埃拉
申请号:
CN201080057081.9
公开号:
CN102686589A
申请日:
2010.12.14
申请国别(地区):
CN
年份:
2012
代理人:
摘要:
本发明涉及式(I)的乙炔基衍生物,其中X是N或C-R1;Y是N或C-R2;Z是CH或N;R4是含有0、1或2个氮原子的6元芳族取代基,所述芳族取代基任选地被选自卤素、低级烷基、低级烷氧基或NRR’的1至3个基团取代;R1是氢,低级烷基,低级烷氧基,羟基,低级羟烷基,低级环烷基或是任选地被羟基或烷氧基取代的杂环烷基;R2是氢,CN,低级烷基或杂环烷基;R和R’彼此独立地是氢或低级烷基;或它们的药用盐或酸加成盐,外消旋混合物,或其对应的对映体和/或光学异构体和/或立体异构体。现已经惊奇地发现通式I化合物是代谢型谷氨酸受体亚型5(mGluR5)的正变构调节剂(PAM),并且因此它们可用于治疗与该受体相关的疾病。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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