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重合性モノマー、高分子化合物、ポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法
- 专利权人:
- 信越化学工業株式会社
- 发明人:
- 長谷川 幸士,畠山 潤,阿達 鉄平
- 申请号：
- JP20150137416
- 公开号：
- JP2017019911(A)
- 申请日:
- 2015.07.09
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物、前記ポリマーを用いたポジ型レジスト材料、前記ポリマーを与える重合性モノマー、及びパターン形成方法の提供。【解決手段】式（１）で表される重合性モノマー。（Ｒ1はＨ又はメチル基；Ｒ2はＨ又は１価炭化水素基；Ｒ3はＨ、シアノ基、ニトロ基、又は炭素数１〜６の直鎖状、分岐状若しくは環状の１価炭化水素基；Ｒ4はＨ又は酸不安定基；Ｘ1は単結合、エステル基、エーテル基若しくはラクトン環を有する炭素数１〜１２の連結基、フェニレン基、又はナフチレン基；ｍは１〜４の整数）【選択図】なし
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
