単量体、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法

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专利权人:

信越化学工業株式会社

发明人:

提箸 正義,藤原 敬之,長谷川 幸士,谷口 良輔

申请号：

JP20140097347

公开号：

JP6137046(B2)

申请日:

2014.05.09

申请国别(地区):

日本

年份:

2017

代理人:

摘要：

A polymer for resist use is obtainable from a monomer having formula (1) wherein R1 is H, CH3 or CF3, R2 and R3 each are H or a monovalent hydrocarbon group, X1 is a divalent hydrocarbon group, k1=0 or 1, and Z forms a 5 or 6-membered alicyclic ring. A resist composition comprising the polymer is shelf stable and displays a high dissolution contrast, controlled acid diffusion and low roughness during both alkaline development and organic solvent development.

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/