重合性単量体、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法
- 专利权人:
- 信越化学工業株式会社
- 发明人:
- 福島 将大,提箸 正義,長谷川 幸士,畠山 潤,片山 和弘
- 申请号：
- JP20150220175
- 公开号：
- JP2017088731(A)
- 申请日:
- 2015.11.10
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】ＫｒＦレーザー光、ＡｒＦレーザー光、Ｆ2レーザー光に対して優れた透明性を有し、現像特性に優れ、高コントラスト、高解像で、エッチング耐性にも優れたアルカリ現像液に不溶なネガティブパターンの形成が可能であるレジスト材料用重合性単量体。【解決手段】式（１ａ）又は（１ｂ）で示される重合性単量体。【選択図】なし
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
