Maria Pettersson,Håkan Engqvist,Johanna Olofsson,Lars Hultman
申请号：
DE112012003608
公开号：
DE112012003608B4
申请日:
2012.08.30
申请国别(地区):
DE
年份:
2019
代理人:
摘要：
Ein Implantat umfasst ein Substrat und eine Beschichtung auf einer Oberfläche des Substrates, und die Beschichtung umfasst Siliziumnitrid und hat eine Dicke von etwa 1 bis etwa 15 µm. Ein Verfahren für den Erhalt des Implantates umfasst die Beschichtung einer Oberfläche des Impantatsubstrates mit der Beschichtung, umfassend Siliziumnitrid und mit einer Dicke von etwa 1 bis etwa 15 µm durch physikalischen Dampfniederschlag.An implant includes a substrate and a coating on a surface of the substrate, and the coating comprises silicon nitride and has a thickness of about 1 to about 15 microns. One method of obtaining the implant includes coating a surface of the implant substrate with the coating comprising silicon nitride and having a thickness of about 1 to about 15 microns by physical vapor deposition.
