An implant comprises a substrate and a coating on a surface of the substrate, and the coating comprises silicon nitride and has a thickness of from about 1 to about 15 micrometer. A method of providing the implant comprises coating a surface of the implant substrate with the coating comprising silicon nitride and having a thickness of from about 1 to about 15 micrometer by physical vapor deposition.基材、及び、前記基材の表面上に設けられた被覆層を含有し、前記被覆層が窒化珪素を含有し、約1から約15μmまでの厚さを有する、インプラント。基材、及び、前記基材の表面上に設けられた被覆層を含有し、前記被覆層が窒化珪素を含有し、約1から約15μmまでの厚さを有し、物理蒸着により被覆される、インプラントの製造方法。【選択図】図11