您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

MAGNETIC FIELD ADJUSTMENT METHOD
专利权人:
HITACHI LTD;株式会社日立製作所
发明人:
ABE MITSUJI,阿部 充志,SAKAKIBARA KENJI,榊原 健二,FUJIKAWA TAKUYA,藤川 拓也,HANADA HIKARI,花田 光
申请号:
JP2018167368
公开号:
JP2018196776A
申请日:
2018.09.06
申请国别(地区):
JP
年份:
2018
代理人:
摘要:
To perform shimming capable of acquiring uniformity similar to ideal shimming, to a magnet requiring a precise magnetic field.SOLUTION: A magnetic field adjustment method has the first to the sixth steps. In the sixth step, shimming is performed virtually from a post-correction magnetic field intensity distribution in the fifth step, and if a result of magnetic field evaluation after shimming has sufficient uniformity, a shim magnetic substance is arranged on a shim tray following an arrangement condition acquired in the fourth step.SELECTED DRAWING: Figure 1【課題】精密な磁場が必要な磁石に対して、理想的なシミングに近い均一度を獲得できるシミングを行えるようにする。【解決手段】磁場調整方法は、第1~第6ステップを有し、前記第6ステップでは、前記第5ステップでの補正後磁場強度分布から仮想的にシミングを行い、シミング後の磁場評価の結果が仕様に対して十分な均一度であれば、前記第4ステップにて取得される配置条件にしたがって前記シム磁性体を前記シムトレイに配置することを特徴とする。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充