BAEK, Jonghoon,ABRAHAM, Mathew Cheeran,EVANS, David Robert,GAZZA, Jack Michael
申请号：
USUS2016/066412
公开号：
WO2017/127182A1
申请日:
2016.12.13
申请国别(地区):
US
年份:
2017
代理人:
摘要：
A system and method of removing target material debris deposits simultaneously with generating EUV light includes generating hydrogen radicals in situ in the EUV vessel, proximate to the target material debris deposits and volatilizing the target material debris deposits and purging the volatilized target material debris deposits from the EUV vessel without the need of an oxygen containing species in the EUV vessel.L'invention concerne un système et un procédé d'élimination des dépôts de débris d'un matériau cible, simultanément à la génération de lumière EUV. Le procédé consiste à générer in situ des radicaux d'hydrogène dans la cuve EUV, à proximité des dépôts de débris du matériau cible； et à volatiliser les dépôts de débris du matériau cible, et à purger la cuve EUV des dépôts de débris du matériau cible volatilisés sans nécessité d'une espèce contenant de l'oxygène dans la cuve EUV.
