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ＥＵＶマスク検査システムの光学系の波面収差計測
- 专利权人:
- ケーエルエー−テンカー コーポレイション
- 发明人:
- ジャーン チアーン,リウ イエンウェイ,セジナー アブドゥラフマン
- 申请号：
- JP20170190260
- 公开号：
- JP2018028670(A)
- 申请日:
- 2017.09.29
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】極端紫外線（ＥＵＶ）検査システムの波面収差を測定するためのテスト構造を開示する。【解決手段】ＥＵＶ光への反射性を実質的に有しない素材から形成される基板および基板上に形成され、ＥＵＶ光を反射するように異なる屈折率を有する層の複数の交互の対を備える多層膜（ＭＬ）スタック部の対の数は１５以下であり、テスト構造上へＥＵＶ入射ビームを方向づけるための一つ以上の光学系２０４と、テスト構造からの出力ビームを検出し出力ビームに基づいて画像または信号を生成するための検出器２１４と、検査システムの瞳を横切る波面収差を測定するために画像または信号を分析するように構成されるプロセッサシステム２１６を備える。【選択図】図２
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
