波面計測装置、波面計測方法、光学素子の製造方法、光学系の製造方法
- 专利权人:
- キヤノン株式会社
- 发明人:
- 杉本 智洋
- 申请号：
- JP20160130912
- 公开号：
- JP2018004410(A)
- 申请日:
- 2016.06.30
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】 光学素子や光学系の波面を広い計測レンジで高精度に計測する。【解決手段】 光源１０からの光を被検光と参照光とに分割し、被検光を被検物５０に入射させ、被検物５０を透過した被検光または被検物５０で反射した被検光を光束分割素子６０に入射させて複数の被検光に分割し、複数の被検光を回折素子７０の第１面７０ａに入射させ、回折素子７０の第２面７０ｂから射出した複数の被検光と参照光とを干渉させて干渉光を計測する。干渉光の位相を算出し、複数の被検光の重心位置を算出し、重心位置と干渉光の位相とを用いて被検物５０の波面を算出する。【選択図】 図１
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
