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一种Cu2-xS自掺杂半导体光热材料及其在隐形指纹成像方面的应用
- 专利权人:
- 北京化工大学
- 发明人:
- 汪乐余,崔家斌,许苏英
- 申请号：
- CN201610011374.2
- 公开号：
- CN105662425A
- 申请日:
- 2016.01.08
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2016
- 代理人:
- 张洪年
- 摘要：
- 本发明公开了一种基于Cu2-xS自掺杂半导体光热材料的隐形指纹成像方法。本发明利用烯丙基硫醇的聚合作用，对具有较高光热转换效率的Cu2-xS自掺杂半导体材料的表面进行修饰，使其具有两亲性，能够选择性地吸附于隐形指纹上，并借助于近红外光辐射和近红外成像仪，实现了复杂背景下隐形指纹地清晰成像。此外，本发明利用Cu2-xS-CdSe@ZnS的纳米复合材料所构筑的一种荧光-光热双模态成像方法，可以在实现指纹形貌成像完整的条件下，成功地检测到隐形指纹里含有的2,4,6-三硝基甲苯等烈性爆炸品残留物，为侦察犯罪分子犯罪证据提供了有力的手段，能够在司法鉴定和反恐应用中发挥重要作用。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
