PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plasma processing apparatus and a plasma torch capable of improving the efficiency of plasma irradiation to a processing target. SOLUTION: In a plasma torch 25 of the present invention, first and second plasma generating electrodes 25A, 25B facing each other with a cylindrical insulating pipe 25P corresponding to a hollow insulating member interposed therebetween are attached. As a result, when a voltage is applied to the first and second plasma generation electrodes 25A and 25B while the plasma generation gas is being supplied, plasma is generated between the first and second plasma generation electrodes 25A and 25B. Then, the processing target W passing through the insulating pipe 25P can be irradiated with plasma. [Selection diagram] Figure 1【課題】処理対象へのプラズマ照射の効率の向上が可能なプラズマ処理装置及びプラズマトーチの提供を目的とする。【解決手段】本発明のプラズマトーチ２５では、中空絶縁部材に相当する円筒状の絶縁パイプ２５Ｐを挟んで対向する第１及び第２のプラズマ生成電極２５Ａ，２５Ｂが取り付けられている。これにより、プラズマ生成ガスが供給されている状態で第１及び第２のプラズマ生成電極２５Ａ，２５Ｂに電圧が印加されると、第１及び第２のプラズマ生成電極２５Ａ，２５Ｂ間にプラズマが発生し、絶縁パイプ２５Ｐ内を通過する処理対象Ｗにプラズマを照射することができる。【選択図】図１
