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放射性ハロゲン標識化合物の製造方法
专利权人:
TOKYO INSTITUTE OF TECHNOLOGY
发明人:
TAKAHASHI TAKASHI,高橋 孝志,TANAKA HIROSHI,田中 浩士,SUZUKI YUKIMITSU,鈴木 幸光
申请号:
JP2013188989
公开号:
JP2015054840A
申请日:
2013.09.12
申请国别(地区):
JP
年份:
2015
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide means for efficiently manufacturing a radioactive halogen labeled compound.SOLUTION: There is provided a method for manufacturing a radioactive halogen labeled compound represented by the formula: Sub-X, where Sub represents a substrate and X represents a radioactive halogen atom, and including (1) a process of reacting a high molecular compound containing a substrate and a radioactive halogenated ion under a condition where a phase transfer catalyst exists, (2) a process of binding a byproduct represented by a formula: Sub-OH, where Sub represents a substrate, isolating from the high molecular compound and a compound having an isocyanate group, (3) a process of removing a byproduct bound with the compound having the isocyanate group, and (4) a process of obtaining the radioactive halogen labeled compound from a reaction product of the high molecular compound and the radioactive halogenated ion.COPYRIGHT: (C)2015,JPO&INPIT【課題】 放射性ハロゲン標識化合物を効率的に製造できる手段を提供する。【解決手段】 式:Sub-X(式中、Subは基質を表し、Xは放射性ハロゲン原子を表す。)で表される放射性ハロゲン標識化合物の製造方法であって、(1)相間移動触媒の存在する条件で、基質を含む高分子化合物を、放射性ハロゲン化物イオンと反応させる工程、(2)高分子化合物から遊離する式:Sub-OH(式中、Subは基質を表す。)で表される副生物を、イソシアナート基を有する化合物と結合させる工程、(3)イソシアナート基を有する化合物と結合した副生物を除去する工程、及び(4)高分子化合物と放射性ハロゲン化物イオンとの反応生成物から放射性ハロゲン標識化合物を得る工程を含むことを特徴とする放射性ハロゲン標識化合物の製造方法。【選択図】 なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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