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SiC単結晶成長装置およびSiC単結晶成長方法
专利权人:
昭和電工株式会社;株式会社デンソー
发明人:
藤川 陽平,鷹羽 秀隆
申请号:
JP20150215686
公开号:
JP2017088415(A)
申请日:
2015.11.02
申请国别(地区):
日本
年份:
2017
代理人:
摘要:
【課題】長尺、大口径で、かつ高品質なSiC単結晶を形成することができるSiC単結晶成長装置及びSiC単結晶成長方法の提供。【解決手段】内部にSiC単結晶成長用原料11を収納できる坩堝10と、坩堝10に対向する位置に種結晶設置部21を有する天井部20Aと坩堝10を囲む側壁20Bとを有し、坩堝10を覆う蓋体20と、種結晶設置部21側から坩堝10側へ向かって延在するガイド部30Aと、ガイド部30Aを支持する支持部30Bとを有するガイド部材30と、種結晶設置部21及び/またはガイド部材30を回転させる回転駆動手段40と、を備えるSiC単結晶成長装置100。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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