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薄膜の成膜方法及び成膜装置
专利权人:
株式会社シンクロン
发明人:
佐守 真悟,高瀬 慎一,菅原 聡,長江 亦周,姜 友松
申请号:
JP20150540942
公开号:
JPWO2015178167(A1)
申请日:
2015.04.24
申请国别(地区):
日本
年份:
2017
代理人:
摘要:
耐久性を備えた薄膜を低コストで成膜する方法を提供する。その成膜方法は、成膜装置(1)を用いる。この装置(1)は、基板(100)が内部下方に配置される真空容器(11)と、該容器(11)内を排気する真空ポンプ(15)と、容器(11)外部に設けられた、成膜剤溶液(21)を貯蔵する貯蔵容器(23)と、成膜剤溶液(21)を吐出可能となる吐出部(19)を一端に持つノズル(17)とを含む。成膜剤溶液(21)として、第1材料(S1)と該S1の蒸気圧(P1)よりも高い蒸気圧(P2)を持つ第2材料(S2)とを含む2種類以上の材料からなる溶液を用いる。この成膜剤溶液(21)を、P1よりも高く、かつP2よりも低い圧力の雰囲気下で、基板(100)に吐出する。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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