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薄膜の成膜方法及び成膜装置
专利权人:
株式会社シンクロン
发明人:
佐守 真悟,高瀬 慎一,菅原 聡,長江 亦周,姜 友松
申请号:
JP20150540934
公开号:
JPWO2015177916(A1)
申请日:
2014.05.23
申请国别(地区):
日本
年份:
2017
代理人:
摘要:
耐久性を備えた薄膜を低コストで成膜する方法を提供する。その成膜方法は、成膜装置1を用いる。この装置1は、基板100が内部下方に配置される真空容器11と、該容器11内を排気する真空ポンプ15と、容器11外部に設けられた、成膜剤溶液21を貯蔵する貯蔵容器23と、成膜剤溶液21を吐出可能となる吐出部19を一端に持つノズル17とを含む。成膜剤溶液21として、2種類以上の材料を含む溶液を用いる。この成膜剤溶液21を、該溶液を構成する各材料の蒸気圧に基づいて設定される圧力の雰囲気下で、基板に吐出する。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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