ビス（シリルアミドアミノアルカン）金属化合物及び当該金属化合物を用いた金属含有膜の製造方法
- 专利权人:
- 宇部興産株式会社
- 发明人:
- 金戸 宏樹
- 申请号：
- JP20150212425
- 公开号：
- JP2017081857(A)
- 申请日:
- 2015.10.29
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】ＣＶＤ法、ＡＬＤ法等に用いて簡便な方法によって、Ｃｏ含有膜やＮｉ含有膜の製造する為のＣｏ，Ｎｉ含有化合物の提供。【解決手段】式（１）で示されるビス（シリルアミドアミノアルカン）金属化合物。（Ｒ１〜Ｒ３は各々独立に、Ｃ１〜６の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基；Ｒ４及びＲ５はＣ１〜３の直鎖状又は分岐状のアルキル基；Ｒ４及びＲ５は互いに結合して環を形成しても良い；ＺはＣ１〜５の直鎖状又は分岐状のアルキレン基；ＭはＣｏ又はＮｉ）【選択図】なし
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
