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金属化合物結晶性膜およびその製造方法
专利权人:
国立大学法人東京工業大学
发明人:
大友 明,吉松 公平,呉 東広平
申请号:
JP20160154759
公开号:
JP2018020946(A)
申请日:
2016.08.05
申请国别(地区):
日本
年份:
2018
代理人:
摘要:
【課題】本発明によれば、低コストで、面内方位の分散が小さい、高品質の金属酸化物等の金属化合物結晶性膜を提供する。【解決手段】面内に異方性を有し、かつ表面が非晶質である基板上の金属化合物結晶性膜であって;化合物が酸化物または窒化物であり;かつ面内結晶方位の分散が30度以下の擬単結晶であることを特徴とする金属化合物結晶性膜。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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