瘢痕形成を軽減する医薬組成物及び方法

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专利权人:

ワン、イウェン

发明人:

ワン、イウェン,ダイ、ニアンチー

申请号：

JP2016574313

公开号：

JP6363737B2

申请日:

2014.03.11

申请国别(地区):

JP

年份:

2018

代理人:

摘要：

Disclosed herein is a pharmaceutical composition for reducing scar formation in a subject in need thereof. The pharmaceutical composition includes a mixture of three nucleic acids and a pharmaceutically acceptable carrier. A method for reducing scar formation in a subject in need thereof is also disclosed herein.

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/